Her elementin bir spektrometre ile ölçülen kendine özgü bir emisyon spektrumu vardır. Bir numunede belirli elementlerin ne kadar olduğunu belirlemek için kullanılan ICP-OES (Inductively Coupled Plasma-Optical Emission Spectrometry/İndüktif Eşleşmiş Plazma-Optik Emisyon Spektrometresi), katı ve sıvı numunelerde elementlerin hassas ve doğru şekilde nitel ve nicel olarak ölçülmesini sağlayan bir analiz yöntemidir. Bu teknik, numunenin yüksek sıcaklıktaki plazmaya püskürtülmesiyle gaz fazına geçerek uyarılan atomların yaptıkları emisyon ölçümü üzerine çalışır. ICP-OES, eser elementlerin ve bileşenlerin eş zamanlı analizi için kullanılan en popüler tekniklerden biridir ve çeşitli sektörlerde element analizi için yaygın olarak kullanılmaktadır. ICP-OES cihazı elementlerin tespit edilmesi ve konsantrasyonlarının belirlenmesi için yüksek hassasiyet ve doğruluk sağlar. Bu cihazlar, genellikle üniversiteler, araştırma merkezleri, laboratuvarlar ve endüstriyel sektörlerde element analizi çalışmalarında kullanılmaktadır.

ICP-OES Çalışma Prensibi
ICP-OES çalışma prensibi olarak atomların ve iyonların elektronları temel durumdan uyarılmış bir duruma taşımak için enerji absorbe edebileceği gerçeğini kullanır. ICP-OES'de bu enerjinin kaynağı, 10.000 kelvin'de çalışan bir argon plazmasından gelen ısıdır. Katı, sıvı ve gaz halinden sonra maddenin dördüncü haline Plazma denir. ICP-OES prensibi, bu uyarılmış atomların daha düşük bir enerji seviyesine geçerken belirli dalga boylarında ışık yaymasına dayanır.
Bir elektron daha yüksek bir enerji seviyesinden daha düşük bir enerji seviyesine, genellikle temel duruma dönerken, çok özel bir dalga boyunda ışık yayar. Atom veya iyonun türü (yani hangi element olduğu) ve elektronun hangi enerji seviyeleri arasında hareket ettiği, yayılan ışığın dalga boyunu belirler. Her dalga boyunda salınan ışık miktarı, geçişi yapan atom veya iyonların sayısıyla orantılıdır. Beer Lambert yasası, ışık yoğunluğu ile element konsantrasyonu arasındaki ilişkiyi tanımlar.

ICP-OES ve ICP-MS (İndüktif Eşleşmiş Plazma - Kütle Spektrometresi) cihazları arasındaki temel farklar
Analiz Yöntemi
ICP-OES, numunenin yüksek sıcaklıktaki plazmaya püskürtülmesiyle uyarılan atomların yaptıkları emisyon ölçümü üzerine çalışır.
ICP-MS, numunenin yüksek sıcaklıktaki plazmada iyonlaştırılması ve iyonların kütle/yük oranına göre tespit edilmesi üzerine çalışır.
Hassasiyet ve Algılama Limiti
ICP-MS, ICP-OES'e göre daha yüksek hassasiyete ve daha düşük algılama limitine sahiptir.
Analiz Edilen Elementler
ICP-OES, daha geniş bir element yelpazesini analiz edebilirken, ICP-MS daha düşük konsantrasyonlardaki elementleri tespit edebilir.
Analiz Süresi
ICP-OES analizleri daha hızlıdır, ancak ICP-MS daha yüksek doğruluk ve kesinlik sağlar.
Örnek Hazırlama
ICP-OES, katı ve sıvı numunelerin analizine uygunken, ICP-MS daha karmaşık örnek hazırlama gerektiren analizlerde kullanılır.
Özetle, ICP-OES ve ICP-MS cihazları farklı analitik ihtiyaçlara cevap verebilen tamamlayıcı tekniklerdir. Hangi cihazın kullanılacağı, analiz edilecek elementler, numune türü ve gereken hassasiyet gibi faktörlere bağlıdır.

ONLİNE ANALİZ/HİZMET

KALİTE KOORDİNATÖRLÜĞÜ

ÖNERİ/ŞİKAYET/BİLGİ TALEBİ

FAALİYET RAPORU